ウシオ独自の光学フィルタにより有害な紫外線をカットした波長222nmのエキシマランプモジュール。UV-C光源でありながら、有人環境でも使用でき、ウイルス・細菌・カビへの効果を発揮します。
Clean172とは、波長172nmをピークに持つエキシマランプを光源とすることで、波長172nmの光とその光によって生成される活性酸素によりニオイや化学物質の分子結合を強力に酸化し分解する技術です。
水銀フリーの紫外線ランプを搭載した業務用オゾン脱臭・除菌装置。従来取れにくかった香水などのニオイも強力に脱臭します。
ウシオ独自の光学フィルタを組み合わせることで、有害な紫外線をカットした有人環境でも使用できるUV-C光源。
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紫外線でありながら、人体に悪影響を及ぼさず有人環境で使用できる波長222nm。その特徴とウシオ独自の技術をご紹介いたします。
人が集まるさまざまな場所や施設での実際の活用事例をご覧いただけます。
波長172nmをピークに持つエキシマランプを光源とすることで、放電式同等のオゾン量をNOxを発生させずに生成可能。
脱臭・除菌効果に加え、各種化学物質の分解データをご覧いただけます。
Clean172 オゾン生成用UV光源の活用が期待される用途や実際に装置に組込む場合の応用例をご紹介いたします。
2025/10/01
光オゾン脱臭・除菌装置「XEFIRIA」の生産終了と保守サポートに関するご案内
2025/01/15
紫外線照射装置「Care222® iシリーズ」の生産終了と保守サポートに関するご案内
2024/01/30
お客様の声(スカイニセコ様/脱臭装置 XEFIRIA)を公開しました
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